Международная патентная классификация

G03F 1/24

Оригиналы для фотомеханического получения текстурированных или фигурных поверхностей, например масок, фотомасок, сеток; бланки фотомасок или пленки для них; контейнеры, специально предназначенные для них; их изготовление .маски или бланки масок для формирования изображения с помощью излучения с длиной волны 100 нм или меньше, например рентгеновские маски, маски далекого ультрафиолетового диапазона ; их изготовление ..отражающие маски; их изготовление