Международная патентная классификация

G03F 1/40

Оригиналы для фотомеханического получения текстурированных или фигурных поверхностей, например масок, фотомасок, сеток; бланки фотомасок или пленки для них; контейнеры, специально предназначенные для них; их изготовление .маски, обладающие дополнительными особенностями, например специальными покрытиями или отметками для выравнивания или проверки; их изготовление ..особенности, относящиеся к электростатическому заряду , например антистатические покрытия или проводящий металлический слой вокруг периферии подложки маски