Международная патентная классификация
G03F 1/56
Оригиналы для фотомеханического получения текстурированных или фигурных поверхностей, например масок, фотомасок, сеток; бланки фотомасок или пленки для них; контейнеры, специально предназначенные для них; их изготовление .абсорбенты, например матовые материалы ..органические абсорбенты, например фоторезисты
G03F 1/56
..органические абсорбенты, например фоторезисты
Полная расшифровка кода МПК G03F 1/56:
Код МПК G03F 1/56 / Международная патентная классификация / Оригиналы для фотомеханического получения текстурированных или фигурных поверхностей, например масок, фотомасок, сеток; бланки фотомасок или пленки для них; контейнеры, специально предназначенные для них; их изготовление .абсорбенты, например матовые материалы ..органические абсорбенты, например фоторезисты
Код МПК G03F 1/56 / Международная патентная классификация / Оригиналы для фотомеханического получения текстурированных или фигурных поверхностей, например масок, фотомасок, сеток; бланки фотомасок или пленки для них; контейнеры, специально предназначенные для них; их изготовление .абсорбенты, например матовые материалы ..органические абсорбенты, например фоторезисты
Поиск
Поиск по ИНН
Проверка контрагента
Конвертеры
Изменения классификаторов
Классификаторы общероссийские
Классификаторы международные
Справочники