Международная патентная классификация
G03F 1/70
Оригиналы для фотомеханического получения текстурированных или фигурных поверхностей, например масок, фотомасок, сеток; бланки фотомасок или пленки для них; контейнеры, специально предназначенные для них; их изготовление .процессы изготовления, не отнесенные к группам G03F 1/20 — G03F 1/50 ..приспосабливание основного оригинала или рисунка масок к требованиям литографического процесса, например повторный цикл коррекции шаблонов маски для изображения
G03F 1/70
..приспосабливание основного оригинала или рисунка масок к требованиям литографического процесса, например повторный цикл коррекции шаблонов маски для изображения
Полная расшифровка кода МПК G03F 1/70:
Код МПК G03F 1/70 / Международная патентная классификация / Оригиналы для фотомеханического получения текстурированных или фигурных поверхностей, например масок, фотомасок, сеток; бланки фотомасок или пленки для них; контейнеры, специально предназначенные для них; их изготовление .процессы изготовления, не отнесенные к группам G03F 1/20 — G03F 1/50 ..приспосабливание основного оригинала или рисунка масок к требованиям литографического процесса, например повторный цикл коррекции шаблонов маски для изображения
Код МПК G03F 1/70 / Международная патентная классификация / Оригиналы для фотомеханического получения текстурированных или фигурных поверхностей, например масок, фотомасок, сеток; бланки фотомасок или пленки для них; контейнеры, специально предназначенные для них; их изготовление .процессы изготовления, не отнесенные к группам G03F 1/20 — G03F 1/50 ..приспосабливание основного оригинала или рисунка масок к требованиям литографического процесса, например повторный цикл коррекции шаблонов маски для изображения
Поиск
Поиск по ИНН
Проверка контрагента
Конвертеры
Изменения классификаторов
Классификаторы общероссийские
Классификаторы международные
Справочники