Международная патентная классификация

G03F 1/74

Оригиналы для фотомеханического получения текстурированных или фигурных поверхностей, например масок, фотомасок, сеток; бланки фотомасок или пленки для них; контейнеры, специально предназначенные для них; их изготовление .процессы изготовления, не отнесенные к группам G03F 1/20 — G03F 1/50 ..исправление или коррекция дефектов масок ...с помощью потока заряженных частиц , например фокусированного ионного потока